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一、消耗量
硬铬电镀工艺不含氟,阴极效率高,深镀能力好,成本低,性能稳定。而且可产生硬度达到1000HV、0.1的微裂纹硬铬。HVSS硬铬电镀工艺兼有传统硫酸型电镀液的优良特性,只对铁及铁合金产生轻微腐蚀,且有良好的阴极电流效率,可达27%(传统工艺只能依靠含氟的催化剂)。可广泛应用于耐磨镜面工件以及印刷机滚筒等各个领域,并且可在各种基材上镀出所需的厚度。
二、开缸(100L)
铬酸酐 30公斤
HVSS添加剂 5升
配槽步骤
1.彻底清洗镀槽;
2.向镀槽加入三分之二的去离子水(不能含有氯离子), 加热至50℃左右;
3.在连续搅拌条件下逐步加入所需数量的铬酸;
4.待铬酸完全溶解后, 边搅拌边加入HVSS添加剂。
注意:不需要加硫酸
5.将溶液混匀后, 加去离子水至最终体积;
6.挂入阳极;
注意:新的铅或铅合金阳极要带电下槽
7.用阴极板电解2-3小时,要大阴极小阳极,电流密度30-40 A/dm2;
8.镀液配好可以使用。
三、设备
槽 体 PP或PVC衬里的钢槽
加热/冷却 特覆隆加热圈/冷却圈,或钛管。
挂 钩 铜或镀镍的铜
四、操作条件
主要成分,工艺参数 | 最佳 | 范围 |
温度 | 55℃ | 42℃~60℃ |
阴极电流密度 | 50 A/d㎡ | 10~100A/d㎡ |
阳极电流密度 | 15 A/d㎡ | 5~30A/d㎡ |
电压及整流器 | 依据情况不同,可分为5~15V,波纹小于5% |
阳极搅拌 | 不需。应尽量使用滚动搅拌 |
空气搅拌 | 建议不用 |
过滤 | 从一个槽过滤到另一个槽,仅在镀液反常时使用 |
镀速 | 55 A/d㎡,55℃时,约为1μm/min |
镀液成分 |
铬酐 | 240~320g/L 建议新开缸用到300克 |
硫酸:铬酐 | 1.1~1.4% |
密度(新开缸、铬酐浓度为300g/L时) | 1.215g/cm3 |
25.5°Be |
五、镀液的补充与维护
1. 维护:
范围
铬酸240 ~300 g/L
硫酸1.1~ 1.4% (与铬酸的浓度有关)
2. 镀液的补充:
如需添料,请在测量波美或分析后进行。一般,每周需测一次波美。镀液密度会在电镀过程中下降,每添加大约1.5㎏铬酸酐可使100升镀液升高1°Be,每添加100公斤铬酸酐需补加HVSS 8-10升。
正确调整硫酸根含量通过分析数据分步处理:
> 提高1克/升单位的硫酸根需要加0.55毫升/升分析纯硫酸(98%)
> 降低1克/升单位的硫酸根需要加2克/升碳酸钡
六、HVSS添加剂的影响
1. 浓度太低,镀层会出现乳白色或者变暗;浓度过高,会降低所用电流密度的最大值,并导致镀层在高区烧焦或出现核状镀层。
2. 如果添加剂补充过多,只能稀释镀液。所以建议按比例加入添加剂,带出量及再循环量也会影响添加量。
七、杂质
1. 三价铬的浓度一般3-8克比较好,不能超过15g/L,如超过必须用40-50A/dm2 阴极电流密度下进行电解,且使阴极面积是阳极面积的15-20%。
2. 必须严格控制带入镀液里Fe、Cu、Ni和Zn杂质。
八、废水处理
废水中含有Cr6+离子。在pH值调节到2.0 - 2.5以后,Cr6+离子可以用亚硫酸氢钠还原成Cr3+;在充分的反应之后, 用NaOH溶液调节pH值至8.5 - 9.0 , 使Cr3+生成氢氧化铬(III)沉淀。分离出的沉淀及过滤出的氢氧化物泥, 当作废物处理掉。
镀液含六价铬化合物及重金属杂质,比如铁和铜杂质。
水洗及浓缩废液的处理必须符合当地环保标准。
九、分析方法
铬酸的分析:
试剂:
H2SO4 1:10
KI溶液 100g/L
淀粉溶液 20g/L
Na2S2O3溶液 0.1N
步骤
1.取10mL镀液至500mL容量瓶中;
2.取10mL①的镀液至300 mL锥形瓶;
3.依次加入:50 ml水,10mL碘化钾溶液,50mL 1:10的H2SO4 ;
4.加硫代硫酸钠溶液滴定,直到棕色褪去;
5.加5 mL淀粉溶液滴定,直到变为无色,有时会出现淡绿色。
计算
g/L铬酸 = 硫代硫酸钠的滴定体积(mL)× 16.7